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當前位置:首頁  >  產品中心  >  CVD及PECVD系統  >  CBD/PECVD系統  >  OTF-1200X-4-C4LV1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 OTF-1200X-4-C4LV

1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統 OTF-1200X-4-C4LV

簡要描述:1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。

  • 產品型號:OTF-1200X-4-C4LV
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2016-04-12
  • 訪  問  量:2876

詳細介紹

 

產品型號

  1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV

主要特點

  1采用高純氧化鋁保溫材料,保證了*的溫度均勻性。

  2內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高反射率和保護爐膛潔凈度

  3PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序。

  4金屬箔纏繞在內管的外表面上發CVD反應

  5采用雙管真空密封法蘭,允許反應氣體通過兩管之間(10mm間隙)。

  6卻氣體直接通入內管。

  7有帶KF25快接和波紋管的高速機械泵。

  8爐底部裝有滑軌,爐體可從一端滑向另一端,從而實現快速升溫和降溫。為了獲得較快的加熱速度,可以 

        先將爐體預熱,然后滑至放置樣品處;為了獲得較快的冷卻速度,可將爐體滑至另一端,同時將冷氣通入  

        樣品所在處

  9密封法蘭系統采用不銹鋼制作。

  10已通CE認證。

技術參數

  管式爐

  1電源:單相AC 208-240V   50/60Hz  2.5KW 20A保險絲)

  2、石英管:外管外徑Φ100mm內徑Φ96mm,長1400mm

                        內管外徑Φ80mm內徑Φ75mm,長1400mm

  3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲(表面涂有氧化鋯)

  4、加熱區域:440mm

  5、恒溫區域:120mm(±1℃在400-1100℃)

  6工作溫度:zui高1100連續工作1000

  7、zui大升降溫速率:20/min

  8、控溫精度:±1

  9、真空度:10-3torr(機械泵),10-5torr(分子泵)

  質量流量混氣系統

  1、質子流量計:4路精密質子流量計,數字顯示,氣體流量自動控制

                                MFC1范圍0-100sccmMFC2范圍0-200sccmMFC3范圍0-200sccmMFC1范圍0-500sccm

  2、流量精度:0.2%

  3、氣路:4路(每個氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制)

  4進出氣口:1/4卡套

  5、混氣罐:1

產品規格

  尺寸:管式爐550mm×380mm×520mm,移動架600mm×600mm×597mm

  重量:135kg

可選配件

  1、分子泵

  2、雙溫區管式爐

  3、銅箔(生長石墨烯150mm×150mm×25µm

 

     

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