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VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

簡要描述:VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-03-30
  • 訪  問  量:1131

詳細介紹

品牌其他品牌價格區間面議
產地類別國產應用領域綜合

IMG_256VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導磁材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。IMG_2591、可選一個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
3、體積小,操作簡便。IMG_261

產品名稱

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-1HD

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要

主要參數

1、電源電壓:220V  50Hz
2、功率:<1KW(不含真空泵)
3、腔體內徑:?300mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)
6、靶槍數量:1個(可選配其他數量)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源)
10、載樣臺:?140mm,可根據客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現更高質量的鍍膜。
11、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調
12、工作氣體:Ar等惰性氣體
13、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。

產品規格

1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、重量:160kg
4、真空室規格:φ300×300mm

標準配件

1、直流電源控制系統1套(可選)
2、射頻電源控制系統1套(可選)
3、冷水機1臺
4、聚酯PU管(?6mm)4m

可選配件

1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
2、膜厚監測儀系統
3、分子泵(德國進口或者國產更大抽速)

 


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