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GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單質的薄膜。本機能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導體材料實驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片；加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達20℃/s ；溫控系統采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導出。
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業(yè)實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。
GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設有4個蒸鍍加熱舟，每個加熱舟都可獨立進行蒸鍍，加熱舟上方有一個可旋轉擋板，當其中一個加熱舟進行蒸鍍時擋板將其它三個鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實現對有機材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想
GSL-1800X-ZF-AM連續(xù)式多腔室蒸發(fā)鍍膜系統是一款高真空的可連續(xù)進樣的蒸發(fā)鍍膜儀，主要由傳遞室和蒸發(fā)鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現往復運動，由調頻電機控制，自動同步運行，且往復位置和運動速度均可以設定，兩室內均有定位功能，可實現原點復位。特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀可對樣品進行鍍碳處理，可處理的樣品直徑可達50mm，真空度可達到10-2torr，適合用于實驗室對小樣品進行表面的蒸碳鍍膜使用
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